‌Intel重金挖角！台积电2nm工艺核心人物身价20亿

　　半导体行业迎来重磅人事变动：台积电前策略发展资深副总经理罗唯仁（75岁）在退休后确认加入Intel，有望掌管芯片研发部门。作为台积电28nm节点HighK金属栅极技术量化的关键人物，罗唯仁的回归或将加速Intel18A及14A先进工艺的研发与建厂进程。

　　这位技术大牛的职业轨迹横跨Intel和台积电两大巨头，1996年曾任Intel先进技术发展协理暨CTM厂长，主导美国圣塔克拉拉CPU工厂运营，2004年加入台积电后任职21年间获全球1500余项专利（含1000项美国专利），推动28nm技术突破并建立7x24研发中心协作模式，2011年获台积电最高荣誉TSMCMedalofHonor。

　　此次跳槽背后是半导体行业白热化的人才争夺战，台积电、Intel及三星作为全球唯能量产2nm工艺的厂商，罗唯仁的加入可能改变Intel在先进制程的竞争格局。值得注意的是，因已退休且为美国籍，台积电无法效仿当年对梁孟松的竞业限制措施，双方均未公开回应，但Intel对18A工艺（2024年量产）的迫切需求与罗唯仁的经验高度契合。这位75岁技术大佬的动向再次证明，在2nm时代技术壁垒加剧的背景下，资深专家的流动正重塑全球晶圆代工格局。

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